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產品(pin)用途：此款CVD系統適用于CVD工藝，如(ru)碳(tan)化硅(gui)鍍膜、陶瓷基片(pian)導(dao)電率測試、ZnO納米結(jie)構的可控生(sheng)長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jie)真空淬火(huo)退(tui)火(huo)，快(kuai)速(su)降(jiang)溫等工藝實(shi)驗。

產品用(yong)途：此款CVD系(xi)統(tong)是專門為在(zai)金(jin)屬(shu)箔(bo)上生長(chang)薄膜而設計，特別是應用(yong)在(zai)新一代能源關于柔性金(jin)屬(shu)箔(bo)電(dian)極方(fang)面(mian)的(de)研究，通過(guo)滑(hua)動爐(lu)實現快速加熱和冷卻。

CVD系統系周期作業，供企(qi)業實驗室，大(da)專(zhuan)院校，科研院所等單(dan)位(wei)選用，設備為用戶(hu)提供具體真空(kong)、可控氣氛及高溫的實驗環(huan)境，應用在半導體，納(na)米技(ji)術，碳纖維等新(xin)材料新(xin)工藝領域。