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1200℃滑動雙溫區PECVD系統時間：2023-11-02生(sheng)產地址：天(tian)津廠商性質：生產廠家瀏覽量：7078PECVD系統(tong)配置：1.1200度(du)開啟式雙(shuang)溫區(qu)真(zhen)空管式爐2.等離子射頻電(dian)源3.多路質(zhi)量流量控制系統(tong)4.真(zhen)空系統(tong)（可選配中真(zhen)空或高(gao)真(zhen)空）
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1200℃集成型自動小型PECVD系統時(shi)間：2023-11-02生產(chan)地址：天津廠商性質：生產廠家瀏(liu)覽(lan)量：4310PECVD系(xi)統(tong)是借助射頻使含有薄(bo)膜(mo)組成原子的氣體(ti)電離(li)(li)，在局(ju)部形成等離(li)(li)子體(ti)，而等離(li)(li)子體(ti)化學活性很(hen)強，很(hen)容易發(fa)生反應，在基(ji)片上沉積(ji)出所期(qi)望的薄(bo)膜(mo)。集成型PECVD系(xi)統(tong)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系(xi)統(tong)PECVD-12IH-4Z/G
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PECVD系統(tong)是借助射頻使(shi)含有薄膜組成原(yuan)子(zi)的氣(qi)體(ti)電離，在(zai)局(ju)部形成等(deng)離子(zi)體(ti)，而等(deng)離子(zi)體(ti)化學活性很強，很容易發(fa)生反應，在(zai)基(ji)片上(shang)沉積出(chu)所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tong)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tong)PECVD-12IH-4Z/G
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