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CVD管式爐設備(bei)由沉積(ji)溫度控(kong)(kong)件、沉積(ji)反(fan)應室、真空控(kong)(kong)制部件和氣源控(kong)(kong)制備(bei)件等部分組成亦可根據用(yong)(yong)戶需(xu)要設計生產(chan)，CVD系統除(chu)了(le)主要應用(yong)(yong)在(zai)碳納米材料(liao)制備(bei)行業(ye)(ye)外，現(xian)在(zai)正在(zai)使用(yong)(yong)在(zai)許多(duo)行業(ye)(ye)，包括納米電子學(xue)、半導體、光電工程的研發、涂料(liao)等領域。

CVD管式爐(lu)設備由沉積(ji)(ji)溫(wen)度控件、沉積(ji)(ji)反應(ying)(ying)室、真(zhen)空(kong)控制(zhi)(zhi)部件和氣源控制(zhi)(zhi)備件等部分組成亦可根據用戶需要(yao)設計生(sheng)產，CVD系(xi)統除了(le)主要(yao)應(ying)(ying)用在(zai)碳納(na)米(mi)材(cai)料制(zhi)(zhi)備行(xing)業(ye)外，現在(zai)正在(zai)使用在(zai)許多行(xing)業(ye)，包(bao)括納(na)米(mi)電(dian)子(zi)學、半導體(ti)、光電(dian)工程(cheng)的(de)研發(fa)、涂料等領(ling)域。